Título PROCEDIMIENTO Y DISPOSITIVO DE EXPOSICION PARA GENERAR UNA IMAGEN SOBRE UNA PLACA DE IMPRESION PARA LA IMPRESION OFFSET HUMEDA.
Resumen Procedimiento de exposición para la ilustración de una forma de impresión, para una impresión offset húmeda, en la que una forma de impresión (12) y un array de láser de semiconductor (23) pulsado realizan un movimiento en la dirección y la velocidad del movimiento relativo predeterminado, en la que la superficie a ilustrar en la forma de impresión (12) se expone por píxeles de acuerdo con la figura mediante el láser de semiconductor (23), caracterizado porque a) mediante el láser de semiconductor (23) estrecho, se generan puntos láser (28) en forma de tiras, que presentan en las superficies a ilustrar la forma de impresión (12) cada uno de ellos en dirección al movimiento relativo a la anchura del punto láser medido (Bs), que son varias veces menores que la anchura medida en la misma dirección de un píxel de imagen de la superficie a ilustrar, y también varias veces más pequeños que la longitud láser (Ls), medida transversal a la anchura del punto láser (Bs) del mismo punto láser (28), siendo la longitud del punto láser (Ls) y/o la altura del píxel de imagen un múltiple par o impar de la anchura del punto láser (Bs), y porque b) una duración de pulso por punto láser (28) es varias veces más larga que la duración recorrida en el movimiento relativo de un recorrido, que corresponde a la anchura láser (Bs).
Solicitante MASCHINENFABRIK WIFAG
Direc. Soli. WYLERRINGSTRASSE 39,3001 BERN
Nac.Solicitante CH
Inventor RIEPENHOFF, MATTHIAS
JIANG, YUFAN
NºPublic. 2244401
F.Pub.Conce. 20051216
Prioridades DE1999031719911907
Nº Solicitud Euro. E00810210
F.Sol.Euro. 20000313
NºPubl.Euro. 1036656
F.Pub.Sol.Euro. 20000920
F.Conce.Euro. 20050727
Países desig.Euro. AT BE CH DE DK ES FR GB GR IT LI LU NL SE MC PT IE SI LT LV FI RO MK CY AL
Clasif.Principal B41C1/10